GfS Knowhow in PECVD e DC Sputtering:
Deposizione chimica di vapore al plasma (PECVD)
Il sottile strato isolante di vetro è prodotto sui corpi di espansione in acciaio mediante il processo di deposizione chimica di vapore assistita dal plasma. I corpi dei sensori sono posizionati sulla piastra calda e nella camera di reazione sotto vuoto il gas silano incorporato viene ionizzato dalla tensione ad alta frequenza applicata e cresce come strato di SiO 2sulle superfici.
Sputtering DC
Sputtering significa "atomizzazione" ed è un metodo di rivestimento sotto vuoto per la produzione controllata di strati molto sottili. Il materiale di destinazione è atomizzato da un plasma di argon usando un'alta tensione DC e cresce sui substrati come uno strato sottile. Alla GfS gli strati di NiCr e nichel vengono sottoposti a sputtering. Essi formano poi il ponte di misura dell'estensimetro e quindi il cuore del sensore di pressione.
