Conocimiento de GfS en PECVD y Sputtering DC:
Deposición química de vapor mejorada por plasma (PECVD)
La fina capa aislante de vidrio se produce sobre los cuerpos de expansión de acero mediante el proceso de deposición química de vapor asistida por plasma. Los cuerpos del sensor se colocan en la placa caliente y en la cámara de reacción de vacío el gas silano incrustado se ioniza mediante la tensión de alta frecuencia aplicada y crece como capa de SiO 2en las superficies.
Sputtering DC
Sputtering significa "atomización" y es un método de recubrimiento al vacío para la producción controlada de capas muy finas. El material de destino se atomiza mediante un plasma de argón con corriente continua de alto voltaje y crece en los sustratos como una capa fina. En GfS se pulverizan las capas de NiCr y níquel. A continuación, forman el puente de medición de la galga extensométrica y, por tanto, el corazón del sensor de presión.
