Savoir-faire de GfS en matière de PECVD et de pulvérisation à courant continu:
Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD)
La fine couche isolante en verre est produite sur les cellules en acier par le processus de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma. Les corps des capteurs sont positionnés sur la plaque chauffante et, dans la chambre de réaction sous vide, le gaz silane incorporé est ionisé par la tension haute fréquence appliquée, et croît en tant que couche de SiO 2sur les surfaces.
Pulvérisation en courant continu
Il faut comprendre par Pulvérisation "atomisation", qui est une méthode de revêtement sous vide pour la production contrôlée de couches très fines. Le matériau cible est atomisé par un plasma d'argon sous haute tension continue et se développe sur les substrats sous forme de couche mince. Chez GfS, les couches de NiCr et de nickel sont pulvérisées. Elles forment ensuite le pont de mesure des jauges de contrainte et donc le cœur du capteur de pression.
